什么(me)是N沟(gou)道MOS管(guan)场效应管(guan)
信(xin)息来(lai)源:本站(zhan) 日期:2017-04-29
N沟道(dao)(dao)耗(hao)尽(jin)型(xing)MOS管(guan)和(he)N沟道(dao)(dao)增(zeng)强型(xing)MOS管(guan)的(de)(de)结构基本相同(tong)。差别在于(yu)耗(hao)尽(jin)型(xing)MOS管(guan)的(de)(de)Si02绝缘层中(zhong)掺(chan)有大量的(de)(de)正(zheng)离子(zi)Na+或K+(制造P沟道(dao)(dao)耗(hao)尽(jin)型(xing)MOS管(guan)时掺(chan)人负离子(zi)),故在UCs=0时,这些正(zheng)离子(zi)产生(sheng)的(de)(de)电(dian)场作(zuo)用下,漏(lou)极一(yi)源(yuan)极间的(de)(de)P型(xing)衬底表(biao)面也能感应天(tian)生(sheng)N沟道(dao)(dao)(称为初始沟道(dao)(dao)),只要(yao)加(jia)上正(zheng)向(xiang)电(dian)压UDS,就(jiu)有电(dian)流。假如加(jia)上正(zheng)的(de)(de)UCs,栅极与N沟道(dao)(dao)间的(de)(de)电(dian)场将在沟道(dao)(dao)中(zhong)吸引来(lai)更(geng)多的(de)(de).
N沟道耗尽型MOS管和N沟道增强型MOS管(guan)的结构基本相同。差别在于耗尽型MOS管的Si02绝缘层中掺有大量的正离子Na+或K+(制造P沟道耗尽型MOS管时掺人负离子),故在UCs=0时,这些正离子(zi)产生的(de)电(dian)(dian)(dian)场(chang)作(zuo)用(yong)下,漏极(ji)一源极(ji)间的(de)P型衬(chen)底表面也能(neng)感应天生N沟(gou)(gou)(gou)道(dao)(称(cheng)为初始(shi)沟(gou)(gou)(gou)道(dao)),只要加上正向电(dian)(dian)(dian)压(ya)UDS,就(jiu)有(you)电(dian)(dian)(dian)流。假如加上正的(de)UCs,栅极(ji)与N沟(gou)(gou)(gou)道(dao)间的(de)电(dian)(dian)(dian)场(chang)将在沟(gou)(gou)(gou)道(dao)中吸(xi)引(yin)来更多的(de)电(dian)(dian)(dian)子(zi),沟(gou)(gou)(gou)道(dao)加宽,沟(gou)(gou)(gou)道(dao)电(dian)(dian)(dian)阻变小。增(zeng)大(da)。反之UCs为负时,沟(gou)(gou)(gou)道(dao)中感应的(de)电(dian)(dian)(dian)子(zi)减(jian)少(shao),沟(gou)(gou)(gou)道(dao)变窄(zhai),沟(gou)(gou)(gou)道(dao)电(dian)(dian)(dian)阻变大(da)。减(jian)少(shao)。当UCS负向增(zeng)加到(dao)某一数值时,导电(dian)(dian)(dian)沟(gou)(gou)(gou)道(dao)消(xiao)失。趋于零,管子(zi)截止,故称(cheng)为耗尽型。
N沟道耗尽型MOSFET的结构与增强型MOSFET结构类似,只有一点不同,就是N沟道耗尽型MOSFET在栅极电压uGS=0时,沟道已经存在。该N沟道是在制造过程中应用离子注入法预先在衬底的表面,在D、S之间制造的,称之为初始沟道。N沟道耗尽型MOSFET的结构和符号如图1.(a)所示,它是在栅极下方的SiO2绝缘层中掺入了大量的金属正离子。所以当VGS=0时,这些正离子已经感应出反型层,形成了沟道。于是,只要有漏源电压,就有漏极电流存在。当VGS>0时,将使ID进一步增加。VGS<0时,跟着VGS的减小漏极电流逐渐减小,直至ID=0。对应ID=0的VGS称为夹断电压,用符(fu)号VGS(off)表(biao)示,有时也(ye)用VP表(biao)示。N沟(gou)道耗(hao)尽型MOSFET的(de)转移特性.
耗尽型MOS场效(xiao)应(ying)管,是在制(zhi)造(zao)过程中,预先在SiO2绝(jue)缘层(ceng)中掺入大(da)量的(de)(de)正离(li)子,因此,在UGS=0时,这些正离(li)子产生的(de)(de)电场也(ye)能在P型衬底中“感(gan)应(ying)”出足够的(de)(de)电子,形成(cheng)N型导电沟(gou)道。
当UDS>0时,将产生较大的漏极电流ID。假如使UGS<0,则它将削弱正离子所形成的电场,使N沟道变窄,从而使ID减小。当UGS更负,达到某一数值时沟道消失,ID=0。使ID=0的UGS我们也称为夹断电压,仍用UP表示。UGS
据导电方式的不同,MOSFET又分(fen)增强(qiang)型(xing)、耗尽(jin)型(xing)。耗尽(jin)型(xing)是指,当(dang)VGS=0时即形成沟道(dao)(dao),加上准确的VGS时,能使多数(shu)载(zai)流子流出沟道(dao)(dao),因而(er)“耗尽(jin)”了载(zai)流子,使管子转向截止。
联系方式:邹先生
手机(ji):18123972950
QQ:2880195519
联系地址:深(shen)圳市福田(tian)区车公庙(miao)天(tian)(tian)安数码城天(tian)(tian)吉大厦CD座5C1
关(guan)注KIA半导体工程(cheng)专(zhuan)辑请搜微信(xin)号:“KIA半导体”或点击本文下方(fang)图片扫(sao)一扫(sao)进入官方(fang)微信(xin)“关(guan)注”
长(zhang)按二维(wei)码识(shi)别关注