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功率(lv)MOS管(guan)主要参数-功率(lv)MOSFET每一个参数介绍-KIA MOS管(guan)

信息来源:本站(zhan) 日期:2018-11-16 

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功(gong)率(lv)MOS管主要参数

在使(shi)用(yong)MOS管(guan)设计开(kai)关电(dian)(dian)源(yuan)或者马达(da)驱动电(dian)(dian)路(lu)的(de)时候(hou),一(yi)般都要考(kao)虑MOS的(de)导通电(dian)(dian)阻(zu),最(zui)大电(dian)(dian)压(ya)等(deng),最(zui)大电(dian)(dian)流等(deng)因素。


功率MOS管主要参数


MOS管(guan)导(dao)通特性(xing)

导(dao)通的意思(si)是(shi)作为开关,相当于开关闭(bi)合。

NMOS的(de)(de)特性(xing),Vgs大于一定(ding)的(de)(de)值就(jiu)会导通,适合用于源极(ji)接地时的(de)(de)情况(低端驱动(dong)),只要栅极(ji)电(dian)压(ya)达到一定(ding)电(dian)压(ya)(如4V或10V, 其(qi)他电(dian)压(ya),看手(shou)册)就(jiu)可以了。

PMOS的特性,Vgs小于(yu)(yu)一(yi)定(ding)的值就会导通,适合用于(yu)(yu)源(yuan)极接(jie)VCC时的情况(kuang)(高端(duan)驱动)。但是,虽(sui)然PMOS可以很方便(bian)地用作高端(duan)驱动,但由于(yu)(yu)导通电阻大,价格贵,替换种(zhong)类少等原因,在(zai)高端(duan)驱动中,通常还是使用NMOS。


MOS开关(guan)管损失

不管是(shi)(shi)NMOS还是(shi)(shi)PMOS,导(dao)(dao)通后都有(you)导(dao)(dao)通电(dian)(dian)阻(zu)存在(zai),因而在(zai)DS间(jian)流(liu)过电(dian)(dian)流(liu)的同时(shi),两(liang)端还会(hui)有(you)电(dian)(dian)压(ya),这样电(dian)(dian)流(liu)就会(hui)在(zai)这个电(dian)(dian)阻(zu)上消耗(hao)(hao)能量,这部分消耗(hao)(hao)的能量叫做导(dao)(dao)通损耗(hao)(hao)。选择导(dao)(dao)通电(dian)(dian)阻(zu)小的MOS管会(hui)减小导(dao)(dao)通损耗(hao)(hao)。现在(zai)的小功率MOS管导(dao)(dao)通电(dian)(dian)阻(zu)一般(ban)在(zai)几毫欧,几十毫欧左右。

MOS在导(dao)通(tong)和截止(zhi)的(de)(de)(de)时(shi)候(hou),一(yi)定不是在瞬间(jian)(jian)完(wan)成的(de)(de)(de)。MOS两端的(de)(de)(de)电压有(you)(you)一(yi)个(ge)下降的(de)(de)(de)过(guo)程,流(liu)过(guo)的(de)(de)(de)电流(liu)有(you)(you)一(yi)个(ge)上(shang)升的(de)(de)(de)过(guo)程,在这段时(shi)间(jian)(jian)内,MOS管的(de)(de)(de)损失(shi)(shi)(shi)是电压和电流(liu)的(de)(de)(de)乘积,叫做开(kai)关(guan)(guan)损失(shi)(shi)(shi)。通(tong)常(chang)开(kai)关(guan)(guan)损失(shi)(shi)(shi)比导(dao)通(tong)损失(shi)(shi)(shi)大(da)得多,而(er)且开(kai)关(guan)(guan)频率(lv)(lv)越快,导(dao)通(tong)瞬间(jian)(jian)电压和电流(liu)的(de)(de)(de)乘积很大(da),造(zao)成的(de)(de)(de)损失(shi)(shi)(shi)也就很大(da)。降低(di)开(kai)关(guan)(guan)时(shi)间(jian)(jian),可(ke)以减小每(mei)次导(dao)通(tong)时(shi)的(de)(de)(de)损失(shi)(shi)(shi);降低(di)开(kai)关(guan)(guan)频率(lv)(lv),可(ke)以减小单位时(shi)间(jian)(jian)内的(de)(de)(de)开(kai)关(guan)(guan)次数。这两种(zhong)办法都(dou)可(ke)以减小开(kai)关(guan)(guan)损失(shi)(shi)(shi)。


MOS管驱(qu)动

MOS管(guan)导(dao)通不(bu)需要电流,只要GS电压高于(yu)一定(ding)的值(zhi),就(jiu)可以了。但是(shi),我们还需要速度。

在(zai)MOS管(guan)的(de)(de)结构(gou)中可以看到,在(zai)GS,GD之间存在(zai)寄(ji)生电容(rong)(rong),而(er)MOS管(guan)的(de)(de)驱动(dong),实际上就是对电容(rong)(rong)的(de)(de)充放电。对电容(rong)(rong)的(de)(de)充电需要一(yi)(yi)个电流,因为对电容(rong)(rong)充电瞬(shun)间可以把电容(rong)(rong)看成短路(lu),所以瞬(shun)间电流会比较大。选择(ze)/设计MOS管(guan)驱动(dong)时第(di)一(yi)(yi)要注意的(de)(de)是可提(ti)供瞬(shun)间短路(lu)电流的(de)(de)大小。


Mosfet参数含义说明(ming)

Vds
DS击穿电压.当Vgs=0V时,MOS的DS所能承受的最大电压
Rds(on)
DS的导通电阻.当Vgs=10V时,MOS的DS之间的电阻
Id
最大DS电流.会随温度的升高而降低
Vgs
最大GS电压.一般为:-20V~+20V
Idm
最大脉冲DS电流.会随温度的升高而降低,体现一个抗冲击能力,跟脉冲时间也有关系
Pd
最大耗散功率
Tj
最大工作结温,通常为150度和175度
Tstg
最大存储温度
Iar
最大存储温度
Ear
雪崩电流
Eas
重复雪崩击穿能量
BVdss
单次脉冲雪崩击穿能量
Idss
DS击穿电压
Igss
饱和DS电流,uA级的电流
gfs
GS驱动电流,nA级的电流.
Qg
跨导
Qgs
G总充电电量
Qgd
GS充电电量
Td(on)
GD充电电量
Tr
导通延(yan)迟时(shi)间,从有输入电压上(shang)升到10%开始到Vds下降到其(qi)幅值90%的(de)时(shi)间
Td(off)
上升(sheng)时(shi)间,输出电压 VDS 从 90% 下降到其幅值(zhi) 10% 的时(shi)间
Tf
关断延迟时(shi)间(jian),输(shu)入(ru)电压(ya)下降到(dao) 90% 开始到(dao) VDS 上升到(dao)其(qi)关断电压(ya)时(shi) 10% 的时(shi)间(jian)
Ciss
输入(ru)电容,Ciss=Cgd + Cgs.
Coss
输出(chu)电容,Coss=Cds +Cgd.
Crss
反向传输电容,Crss=Cgc.

最大额定参数

最大额定参(can)数,所(suo)有数值取得条件(Ta=25℃)

功率MOS管主要参数


VDSS 最大漏-源电压

在(zai)栅源(yuan)短(duan)接,漏(lou)-源(yuan)额(e)定电压(ya)(VDSS)是指漏(lou)-源(yuan)未发生雪(xue)崩(beng)(beng)击穿(chuan)前所能施加的(de)(de)最(zui)大电压(ya)。根据温(wen)度的(de)(de)不同,实(shi)际雪(xue)崩(beng)(beng)击穿(chuan)电压(ya)可能低于(yu)额(e)定VDSS。关于(yu)V(BR)DSS的(de)(de)详细描述(shu)请(qing)参见静电学特性(xing)。


VGS 最大栅源电压

VGS额(e)(e)定电(dian)压(ya)(ya)(ya)是(shi)(shi)栅源两极间可(ke)(ke)以(yi)施(shi)加(jia)的(de)(de)最大电(dian)压(ya)(ya)(ya)。设(she)定该额(e)(e)定电(dian)压(ya)(ya)(ya)的(de)(de)主要目的(de)(de)是(shi)(shi)防止(zhi)电(dian)压(ya)(ya)(ya)过高导(dao)致的(de)(de)栅氧(yang)化层(ceng)损伤(shang)。实(shi)际(ji)栅氧(yang)化层(ceng)可(ke)(ke)承(cheng)受(shou)的(de)(de)电(dian)压(ya)(ya)(ya)远高于额(e)(e)定电(dian)压(ya)(ya)(ya),但是(shi)(shi)会随(sui)制造(zao)工艺的(de)(de)不同而改变,因(yin)此保(bao)持VGS在额(e)(e)定电(dian)压(ya)(ya)(ya)以(yi)内可(ke)(ke)以(yi)保(bao)证应用的(de)(de)可(ke)(ke)靠性。


ID - 连续漏电流

ID定(ding)义为(wei)(wei)芯片在(zai)最大额定(ding)结温(wen)TJ(max)下,管表(biao)面温(wen)度(du)在(zai)25℃或者更高温(wen)度(du)下,可允许的最大连(lian)续直(zhi)流电流。该参数为(wei)(wei)结与管壳之间额定(ding)热(re)阻RθJC和(he)管壳温(wen)度(du)的函数:


功率MOS管主要参数


ID中(zhong)并(bing)不包含(han)开(kai)关损耗,并(bing)且实(shi)际使用(yong)(yong)时保(bao)持管表面温度在25℃(Tcase)也很难(nan)。因此,硬开(kai)关应用(yong)(yong)中(zhong)实(shi)际开(kai)关电流通常小于(yu)ID 额定值@ TC = 25℃的一半,通常在1/3~1/4。补充,如(ru)果(guo)采用(yong)(yong)热(re)阻(zu)JA的话可以估算出特定温度下的ID,这个值更有现实(shi)意义。

IDM - 脉冲漏极电流

该参(can)数(shu)反映(ying)了器(qi)件可以处理的(de)(de)(de)脉冲(chong)(chong)电(dian)流(liu)的(de)(de)(de)高低,脉冲(chong)(chong)电(dian)流(liu)要远高于连续(xu)的(de)(de)(de)直流(liu)电(dian)流(liu)。定(ding)义IDM的(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)在(zai)于:线的(de)(de)(de)欧姆区(qu)。对(dui)于一定(ding)的(de)(de)(de)栅-源电(dian)压,MOSFET导通后,存在(zai)最大(da)的(de)(de)(de)漏极电(dian)流(liu)。如(ru)图所示(shi),对(dui)于给定(ding)的(de)(de)(de)一个栅-源电(dian)压,如(ru)果工(gong)作(zuo)点位于线性区(qu)域内,漏极电(dian)流(liu)的(de)(de)(de)增大(da)会(hui)提高漏-源电(dian)压,由此增大(da)导通损耗。长时(shi)间工(gong)作(zuo)在(zai)大(da)功率之(zhi)下(xia),将(jiang)导致器(qi)件失效(xiao)。因此,在(zai)典型栅极驱动电(dian)压下(xia),需要将(jiang)额定(ding)IDM设定(ding)在(zai)区(qu)域之(zhi)下(xia)。区(qu)域的(de)(de)(de)分界(jie)点在(zai)Vgs和曲线相(xiang)交点。


功率MOS管主要参数


因此需(xu)要(yao)设定(ding)电(dian)流密度上限,防止芯(xin)片(pian)温度过(guo)高(gao)而(er)烧毁。这本质上是为了(le)防止过(guo)高(gao)电(dian)流流经封(feng)装引线,因为在某些情(qing)况下,整个芯(xin)片(pian)上最“薄弱的连接”不(bu)是芯(xin)片(pian),而(er)是封(feng)装引线。


考虑(lv)到(dao)热效应对于(yu)IDM的(de)限制,温(wen)度的(de)升高(gao)依(yi)赖于(yu)脉(mai)(mai)冲宽度,脉(mai)(mai)冲间的(de)时间间隔,散热状况,RDS(on)以及脉(mai)(mai)冲电流的(de)波(bo)形(xing)和幅(fu)度。单纯满(man)足脉(mai)(mai)冲电流不(bu)超出(chu)IDM上限并不(bu)能保证(zheng)结温(wen)不(bu)超过最大允许值。可以参考热性能与机械性能中关于(yu)瞬时热阻的(de)讨论,来估(gu)计(ji)脉(mai)(mai)冲电流下结温(wen)的(de)情况。


PD - 容许沟道总功耗

容许沟道总功耗标定了器件可以消散的最大功耗,可以表示(shi)为最大结(jie)温和(he)管壳温度为25℃时(shi)热阻(zu)的函数。


TJ, TSTG - 工作温度和存储环境温度的范围

这两个(ge)参(can)数标定了器件工(gong)作和存储环境所允许的结(jie)温(wen)区间(jian)。设定这样的温(wen)度(du)范围(wei)是为了满(man)足器件最短工(gong)作寿命的要求。如果确保器件工(gong)作在这个(ge)温(wen)度(du)区间(jian)内,将(jiang)极大地(di)延长其工(gong)作寿命。


EAS - 单脉冲雪崩击穿能量

如(ru)果电(dian)(dian)(dian)压(ya)过冲值(通常(chang)由(you)于漏电(dian)(dian)(dian)流和杂散电(dian)(dian)(dian)感造成)未(wei)超过击(ji)穿电(dian)(dian)(dian)压(ya),则器件不会发生雪崩(beng)(beng)击(ji)穿,因此也(ye)就不需要消散雪崩(beng)(beng)击(ji)穿的(de)(de)能(neng)力。雪崩(beng)(beng)击(ji)穿能(neng)量标定了(le)器件可(ke)以容忍的(de)(de)瞬(shun)时过冲电(dian)(dian)(dian)压(ya)的(de)(de)安全(quan)值,其依赖(lai)于雪崩(beng)(beng)击(ji)穿需要消散的(de)(de)能(neng)量。

定(ding)义(yi)(yi)额(e)定(ding)雪崩击(ji)穿(chuan)能(neng)量(liang)的器件(jian)通常也会定(ding)义(yi)(yi)额(e)定(ding)EAS。额(e)定(ding)雪崩击(ji)穿(chuan)能(neng)量(liang)与额(e)定(ding)UIS具有相似的意义(yi)(yi)。EAS标定(ding)了器件(jian)可以安全(quan)吸(xi)收反(fan)向雪崩击(ji)穿(chuan)能(neng)量(liang)的高低(di)。

L是电(dian)(dian)感(gan)值(zhi),iD为(wei)电(dian)(dian)感(gan)上(shang)(shang)(shang)流(liu)过(guo)的(de)(de)电(dian)(dian)流(liu)峰值(zhi),其会(hui)(hui)突然转(zhuan)换为(wei)测(ce)量(liang)器件的(de)(de)漏极电(dian)(dian)流(liu)。电(dian)(dian)感(gan)上(shang)(shang)(shang)产生的(de)(de)电(dian)(dian)压超过(guo)MOSFET击穿电(dian)(dian)压后(hou),将导致雪崩击穿。雪崩击穿发生时,即使(shi) MOSFET处于关断(duan)状态,电(dian)(dian)感(gan)上(shang)(shang)(shang)的(de)(de)电(dian)(dian)流(liu)同(tong)样会(hui)(hui)流(liu)过(guo)MOSFET器件。电(dian)(dian)感(gan)上(shang)(shang)(shang)所储存(cun)的(de)(de)能(neng)量(liang)与杂散(san)电(dian)(dian)感(gan)上(shang)(shang)(shang)存(cun)储,由MOSFET消(xiao)散(san)的(de)(de)能(neng)量(liang)类(lei)似(si)。


MOSFET并联后,不(bu)同器件(jian)(jian)之(zhi)间的(de)击(ji)穿电(dian)压很难完全(quan)相同。通(tong)常情况是(shi):某(mou)个器件(jian)(jian)率(lv)先发生雪崩(beng)击(ji)穿,随后所有的(de)雪崩(beng)击(ji)穿电(dian)流(能量)都从该器件(jian)(jian)流过(guo)。


EAR - 重复雪崩能量

重复(fu)雪(xue)崩(beng)能(neng)量(liang)已经成为“工业标准(zhun)”,但是在没(mei)有(you)设定频率(lv),其它损耗(hao)以及冷却(que)量(liang)的情况(kuang)(kuang)下,该(gai)参(can)数没(mei)有(you)任何(he)意义。散热(re)(冷却(que))状况(kuang)(kuang)经常制约着重复(fu)雪(xue)崩(beng)能(neng)量(liang)。对于雪(xue)崩(beng)击穿所(suo)产生的能(neng)量(liang)高低(di)也很难预测(ce)。


额定EAR的(de)(de)真实意义在(zai)于(yu)标(biao)定了器(qi)件(jian)(jian)所能承受的(de)(de)反复雪崩(beng)击穿能量。该定义的(de)(de)前提(ti)条件(jian)(jian)是:不(bu)对频率做(zuo)任何限制,从而器(qi)件(jian)(jian)不(bu)会过(guo)热(re),这对于(yu)任何可能发生(sheng)(sheng)雪崩(beng)击穿的(de)(de)器(qi)件(jian)(jian)都是现实的(de)(de)。在(zai)验证器(qi)件(jian)(jian)设(she)计的(de)(de)过(guo)程中,最好可以(yi)测量处(chu)于(yu)工作(zuo)状态的(de)(de)器(qi)件(jian)(jian)或者热(re)沉的(de)(de)温度,来观(guan)察MOSFET器(qi)件(jian)(jian)是否存在(zai)过(guo)热(re)情况,特(te)别(bie)是对于(yu)可能发生(sheng)(sheng)雪崩(beng)击穿的(de)(de)器(qi)件(jian)(jian)。


IAR - 雪崩击穿电流

对(dui)于某些(xie)器件,雪(xue)崩击穿过程中芯片上电流集(ji)边的(de)倾向要求(qiu)对(dui)雪(xue)崩电流IAR进(jin)行(xing)限制。这样(yang),雪(xue)崩电流变成雪(xue)崩击穿能量规(gui)格的(de)“精细阐述”;其揭(jie)示了(le)器件真正(zheng)的(de)能力(li)。


功率MOS管主要参数


静态(tai)电(dian)特性

功率MOS管主要参数


V(BR)DSS:漏-源击穿电压(破坏电压)

V(BR)DSS(有时候叫做VBDSS)是指在特定的温度和栅源短接情况下,流过漏极电流达到一个特定值时的漏源电压。这种情况下的漏源电压为雪崩击穿电压。

V(BR)DSS 是正温度系数,温度低时V(BR)DSS小于25℃时的漏源电压的最大额定值。在-50℃, V(BR)DSS大约是25℃时最大漏源额定电压的90%。

VGS(th),VGS(off):阈值电压


VGS(th) 是指加的栅源电压能使漏极开始有电流,或关断MOSFET时电流消失时的电压,测试的条件(漏极电流,漏源电压,结温)也是有规格的。正常情况下,所有的MOS栅极器件的阈值电压都会有所不同。因此,VGS(th)的变化范围是规定好的。VGS(th)是负温度系数,当温度上升时,MOSFET将会在比较低的栅源电压下开启。

RDS(on):导通电阻

RDS(on) 是指在特定的漏电流(通常为ID电流的一半)、栅源电压和25℃的情况下测得的漏-源电阻。

IDSS:零栅压漏极电流

IDSS 是指在当栅源电压为零时,在特定的漏源电压下的漏源之间泄漏电流。既然泄漏电流随着温度的增加而增大,IDSS在室温和高温下都有规定。漏电流造成的功耗可以用IDSS乘以漏源之间的电压计算,通常这部分功耗可以忽略不计。

IGSS -栅源漏电流

IGSS是指在特定的栅源电压情况下流过栅极的漏电流。


动态电特性

功率MOS管主要参数


Ciss:输入电容

将漏源(yuan)短接(jie),用交流信号测得的(de)(de)栅(zha)极(ji)(ji)和(he)(he)源(yuan)极(ji)(ji)之间(jian)的(de)(de)电(dian)(dian)容就是输入电(dian)(dian)容。Ciss是由栅(zha)漏电(dian)(dian)容Cgd和(he)(he)栅(zha)源(yuan)电(dian)(dian)容Cgs并联而(er)成(cheng),或者Ciss = Cgs +Cgd。当输入电(dian)(dian)容充电(dian)(dian)致阈值电(dian)(dian)压(ya)时(shi)器(qi)件才能开启,放(fang)电(dian)(dian)致一定值时(shi)器(qi)件才可以关(guan)断。因此驱动电(dian)(dian)路(lu)和(he)(he)Ciss对(dui)器(qi)件的(de)(de)开启和(he)(he)关(guan)断延时(shi)有着直接(jie)的(de)(de)影响。


Coss:输出电容

将栅(zha)源短接,用交(jiao)流信号(hao)测得的(de)漏极和源极之间的(de)电(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)就是输出电(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)。Coss是由漏源电(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)Cds和栅(zha)漏电(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)Cgd并(bing)联而(er)成(cheng),或者Coss = Cds +Cgd对于软开关的(de)应用,Coss非常重要,因为它(ta)可能引起电(dian)(dian)路(lu)的(de)谐振


Crss:反向传输电容

在(zai)源极接地(di)的(de)(de)(de)情况(kuang)下(xia),测得的(de)(de)(de)漏(lou)极和栅极之间的(de)(de)(de)电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)为反向(xiang)传(chuan)(chuan)输(shu)(shu)电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)。反向(xiang)传(chuan)(chuan)输(shu)(shu)电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)等同于(yu)栅漏(lou)电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)。Cres =Cgd,反向(xiang)传(chuan)(chuan)输(shu)(shu)电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)也常叫做米勒(le)电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong),对于(yu)开关(guan)的(de)(de)(de)上升和下(xia)降时间来说是其中一个(ge)重(zhong)要(yao)的(de)(de)(de)参数,他还影响这关(guan)断(duan)延时时间。电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)随着(zhe)漏(lou)源电(dian)(dian)(dian)压(ya)的(de)(de)(de)增加而减小,尤其是输(shu)(shu)出电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)和反向(xiang)传(chuan)(chuan)输(shu)(shu)电(dian)(dian)(dian)容(rong)(rong)(rong)。


功率MOS管主要参数


Qgs,Qgd,和Qg:栅电荷栅电荷值反应存储在端子间电容上的电荷,既然开关的瞬间,电容上的电荷随电压的变化而变化,所以设计栅驱动电路时经常要考虑栅电荷的影响。


Qgs从0电荷(he)开始到(dao)第(di)一(yi)(yi)个(ge)拐点处,Qgd是(shi)从第(di)一(yi)(yi)个(ge)拐点到(dao)第(di)二个(ge)拐点之间部分(也叫做“米勒”电荷(he)),Qg是(shi)从0点到(dao)VGS等于一(yi)(yi)个(ge)特定的驱动电压的部分。

功率MOS管主要参数

漏电(dian)(dian)(dian)流和漏源(yuan)电(dian)(dian)(dian)压(ya)(ya)的(de)(de)变化对栅(zha)电(dian)(dian)(dian)荷(he)(he)值(zhi)影响比(bi)较(jiao)小,而且栅(zha)电(dian)(dian)(dian)荷(he)(he)不(bu)随(sui)温度的(de)(de)变化。测试条件是规定好的(de)(de)。栅(zha)电(dian)(dian)(dian)荷(he)(he)的(de)(de)曲线(xian)图体现在(zai)数据表中(zhong),包括固定漏电(dian)(dian)(dian)流和变化漏源(yuan)电(dian)(dian)(dian)压(ya)(ya)情况下(xia)所对应的(de)(de)栅(zha)电(dian)(dian)(dian)荷(he)(he)变化曲线(xian)。在(zai)图中(zhong)平台电(dian)(dian)(dian)压(ya)(ya)VGS(pl)随(sui)着(zhe)电(dian)(dian)(dian)流的(de)(de)增大增加的(de)(de)比(bi)较(jiao)小(随(sui)着(zhe)电(dian)(dian)(dian)流的(de)(de)降低也(ye)会(hui)降低)。平台电(dian)(dian)(dian)压(ya)(ya)也(ye)正比(bi)于阈值(zhi)电(dian)(dian)(dian)压(ya)(ya),所以不(bu)同(tong)的(de)(de)阈值(zhi)电(dian)(dian)(dian)压(ya)(ya)将会(hui)产生(sheng)不(bu)同(tong)的(de)(de)平台电(dian)(dian)(dian)压(ya)(ya)。


下面(mian)这(zhei)个图更(geng)加详(xiang)细,应用一下:

功率MOS管主要参数


td(on):导通延时时间

导通延时时间是(shi)从当栅源电(dian)(dian)压(ya)上升到10%栅驱动电(dian)(dian)压(ya)时到漏电(dian)(dian)流升到规定电(dian)(dian)流的(de)10%时所经(jing)历的(de)时间。


td(off):关断延时时间

关断延(yan)时(shi)(shi)时(shi)(shi)间是从当(dang)栅(zha)源电(dian)压下降到(dao)(dao)90%栅(zha)驱动电(dian)压时(shi)(shi)到(dao)(dao)漏电(dian)流降至(zhi)规(gui)定电(dian)流的90%时(shi)(shi)所(suo)经(jing)历的时(shi)(shi)间。这显示电(dian)流传输到(dao)(dao)负载之前所(suo)经(jing)历的延(yan)迟。


tr:上升时间

上(shang)升(sheng)时(shi)间是漏极电流从10%上(shang)升(sheng)到90%所经历的(de)时(shi)间。


tf:下降时间

下(xia)降时(shi)间是漏极电流从90%下(xia)降到10%所(suo)经(jing)历(li)的时(shi)间。



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功率MOS管主要参数

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